第21章 技压全场(2 / 2)

他们倒想看看。

这个二十岁出头的年轻人,究竟能讲出些什么名堂出来。

“目前国外最先进的光刻机科技公司阿斯麦所采用的关键技术是,多层Mo/Si镜片以及脱壳镜架结构。”

许一秋继续讲解道。

台下顿时有人冷言讥讽道:“你说的这些谁不知道?我们难道不比你更清楚他们的核心技术?”

“但你以为专利法是干嘛用的?如果我们不开拓出新的思路技术,就算他们把技术白送给我们,我们也用不了!”

许一秋没有理会他。

继续说道:“他们的技术虽然先进,但仍面临着一系列的问题。”

“如,他们所有的光学元件需要采用反射结构,透射率极低。”

“光束传输与成像系统需要控制EUV光的波前变形。”

台下原本还充斥着一小搓的议论声。

在听完许一秋一针见血的分析后,瞬间寂静了下来。

整个会议厅,安静的仿佛能够听到人们的呼吸声。

再反观他们的神情,早已从刚刚的不屑,渐渐转变成了惊愕之色。

就连台上吴富国都神色震惊,似乎是被许一秋刚刚的言论惊住了。

因为直到目前为止,都没有人能够分析出阿斯麦光学系统所存在的缺陷。

但今天,许一秋却当着全体科研学者的面,极为准确的指出了国外光刻机所存在的问题。

要知道。

阿斯麦的光刻机,可是掌握着全世界最先进的EUV技术!

然而,从许一秋的表现来看。

就好像一个大学生在分析一道小学生数学中存在的问题似的。

这让他们岂能不震惊?

“所以,在已知目前所存在的问题上面。”

“我们就可以通过其他的方案设计,做出完全区别于阿斯麦的EUV光刻机,甚至在技术方面,远超于它!”

许一秋淡淡的说道。

但就是这句在许一秋看来极为平常的一句话。

让整个会议厅的科研学者们直接炸锅了。

一群人接二连三的从座位上站了起来,脸色剧烈变换。

“首先,我很承认你对光学系统的准确分析。”

“但,即便阿斯麦的光刻机存在一定的缺点,但你不可否认,它仍然是目前世界上最先进的机器!”

“我们为了研究类似的光刻机技术,你知道我们攻克了多少年吗?”

“整整三十多年!”

“但也仅仅只是缩短了一点差距!”

“你刚刚居然说造出超越阿斯麦技术的光刻机,恕我直言,这简直是痴人说梦。”

一名五十多岁的老教授紧紧地望着台上的许一秋,激动的说道。

面对众人再次投来的质疑眼神。

许一秋只是微微一笑。

“我为何有这个自信?”

话音刚落。

他就再次拿起一根粉笔在黑板上面写下了一个新的名词。

“多通道设计。”

“我们采用分光技术,将EUV的光分成多个通道,每个通道仅负责照明场的一部分区域,这就可以完美解决高照度的同时,又可单独优化每个通道的成像。”

话毕。

还不等众人震惊。

他又立马快速写下了新的数据。

“除了使用Mo/Si多层镜。”

“大家忽视了一些更为重要的材质。”

“只要使用钼硅酸盐,钼鹏等新型多层镜即可获得更好的反射率。”