第7章 EUV双曝光实验(2 / 2)

似乎无论如何实验,也不可能走出这个迷宫。

眼下临时被召集到实验室做实验。

再加上又是深更半夜被吵醒。

实验成员们的内心深处,自然是一百八十个不乐意。

还有的更是直接屏蔽了群消息,无视了吴富国的电话轰炸,假装什么也没有看到,继续呼呼大睡。

但大部分项目组成员,还是艰难地从**爬了起来。

匆匆披上了衣服,就急忙前往了实验室。

毕竟是吴富国院士的亲自来电。

尽管他们再怎么不情愿,院士的面子当然还是要给的。

“院士,项目有所突破吗?”

实验室成员们陆陆续续地走进了实验室后,有气无力的问道。

从他们的眼神中看不到任何自信光彩。

一个个全都睡眼朦胧,一副还没睡醒的模样。

吴富国看着这群毫无动力的成员们,出乎意料的没有发火。

反而安慰道:

“各位,我非常理解大家现在的苦闷。”

“毕竟,实验到了现在毫无进展,暂时失去信心也是常有的事。”

“不过大家也不要灰心丧气。”

“我找到了新的方法。这次实验一定能成功!”

吴富国信心满满地说道。

从许一秋那边得到了新的思路,这使他心情大好,整个人都充满了精气神。

吴富国的一番话,让这些昏昏欲睡的研究员们稍微恢复了一些斗志。

但他们也只当院士是在安慰他们。

实验这么久了。

漂亮话说的也不是一次两次了。

他们真心不觉得这次也能成功。

虽然内心带有质疑,但他们还是老老实实来到了自己的设备前,像往常那样开始进行调试工作。

实验室的中央位置,是一个EUV光刻机平台,上面有照明单元、掩模板台、晶圆台等模块,从外形来看,就像一个大型的精密仪器。

此时实验成员们已经穿好了清洁服UV护目镜与防辐射手套。

吴富国亲自来到了控制台,神情肃然地盯着电脑屏幕上的数据变化。

“;此话一出。

实验室的成员纷纷大吃一惊。

平时他们实验时,只会对光进行一次曝光。

力求制造更强更短波长的光。

但最终都以失败告终。

但这一次,吴富国居然要求他们曝两次光。

但曝光两次就有用了吗?

对于此次实验,众人的内心都疑虑和质疑。

似乎是看出了大家的疑惑。

吴富国保证道:“相信我,这次一定能造出更短更强波长的光!”

一名成员小心翼翼地将涂布了EUV光刻胶的晶圆装载到了光刻机的晶圆台上。

“调整光源参数,立即开启EUV光源。”

吴富国紧紧地盯着实验参数,沉声说道。

实验员们马上紧锣密鼓的开始了实验。

嗡。

一台大型激光设备正常运作,开始输出稳定的EUV激光脉冲。

“很好,进行一次EUV曝光,曝光一定剂量。”

“保持晶圆位置不变,开始进行第二次EUV曝光!”

控制台前,吴富国紧紧地盯着不断跳动的实验参数和数据,声音都有些发抖。

可想他此时的心情有多忐忑。

实验助理员在一旁迅速地做着记录参数。

片刻,不知道是谁激动喊了一声。

“我的老天!”

“成功了!”

“这次光的强度比上次实验的数据有了明显提升!”